酸霧凈化塔(ta)  有(you)機廢氣處理設備

氣(qi)體凈化與(yu)特種氣(qi)體除雜——吸附(fu)  多晶硅，灰色(se)金屬光澤，溶(rong)(rong)于氫(qing)氟(fu)酸(suan)和硝酸(suan)的混酸(suan)中， 不溶(rong)(rong)于水、硝酸(suan)和鹽酸(suan)。高溫熔融狀態下，具有(you)(you)較大的化學活(huo)潑性質，能與(yu)幾乎任(ren)何材(cai)料作(zuo)用，具有(you)(you)半導體性質，是極為重要的優良半導體材(cai)料，但是微量(liang)的雜質即可大大影響其導電(dian)性。

電子(zi)工業中廣泛應(ying)用于制(zhi)造各(ge)類產品，由干燥硅粉與干燥氯(lv)(lv)化氫氣體(ti)在(zai)一(yi)定條件下氯(lv)(lv)化，再經冷凝(ning)、精餾、還原(yuan)而得(de)。

多晶硅是生產單(dan)晶硅的(de)直(zhi)接原料(liao)(liao)，是當代人工智能、自動控制、信(xin)(xin)息處理、光電轉換等半導體器(qi)件(jian)的(de)電子信(xin)(xin)息基礎材料(liao)(liao)，被稱為(wei)“微電子大(da)廈的(de)基石(shi)"。

而在(zai)生產過程(cheng)中由于氣(qi)體(ti)雜質的(de)(de)存在(zai)，對半導體(ti)材料的(de)(de)危害也是(shi)很(hen)大的(de)(de)，為(wei)了得到高質量的(de)(de)多晶硅和單晶硅，因此(ci)在(zai)氣(qi)體(ti)前必須將氣(qi)體(ti)進行凈(jing)化。凈(jing)化的(de)(de)方法有很(hen)多，在(zai)氣(qi)體(ti)凈(jing)化技(ji)術(shu)中，經常綜合運(yun)用以下幾個方面的(de)(de)知識；

酸(suan)霧凈化塔  有機(ji)廢氣處(chu)理設(she)備(bei)

1. 用吸(xi)濕(shi)性液(ye)體干燥(zao)劑(ji)（液(ye)堿、硫酸等）進行(xing)吸(xi)收；

2. 用固體干燥劑：KOH、CuSO4、CaCl2過氯酸鎂等進行化學吸收，用硅膠、
   分子篩等進行物理(li)吸(xi)收；

3. 用催化劑進行化學催化；

4. 用(yong)冷(leng)媒或冷(leng)劑（液態氮等(deng)）進(jin)行低溫冷(leng)凍；

其中吸附(fu)劑(ji)的種類(lei)有(you)很多，目前我國半(ban)導體工業中應(ying)用的還(huan)是硅(gui)膠分子(zi)篩酯類(lei)的吸附(fu)劑(ji)。

化(hua)(hua)學(xue)(xue)催(cui)化(hua)(hua)反(fan)應是指存在(zai)于氣(qi)(qi)體(ti)(ti)中(zhong)的(de)(de)有害雜質(zhi)有時不能(neng)靠(kao)物理(li)的(de)(de)方法從(cong)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)中(zhong)去(qu)除(chu)，而是借(jie)助(zhu)催(cui)化(hua)(hua)劑(ji)的(de)(de)作用，使(shi)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)中(zhong)的(de)(de)雜質(zhi)被吸附在(zai)催(cui)化(hua)(hua)劑(ji)表面，使(shi)雜質(zhi)與氣(qi)(qi)體(ti)(ti)中(zhong)的(de)(de)其他組分相(xiang)互起(qi)化(hua)(hua)學(xue)(xue)反(fan)應轉化(hua)(hua)為無害的(de)(de)化(hua)(hua)合物，這猴子(zi)那個方法被稱(cheng)為化(hua)(hua)學(xue)(xue)催(cui)化(hua)(hua)。

海(hai)普(pu)開發(fa)的(de)氣(qi)體(ti)凈化(hua)與(yu)特種氣(qi)體(ti)除(chu)雜(za)——吸附工藝，采用自主研發(fa)的(de)吸附催化(hua)產(chan)品，可針(zhen)對性解決半導體(ti)行業中的(de)氣(qi)體(ti)凈化(hua)與(yu)特種氣(qi)體(ti)除(chu)雜(za)。